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电子束及深紫外光刻胶      询价购买


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曝光

特点

Micro Resist

德国

ma-N2400系列

电子束和深紫外曝光

电子束和深紫外灵敏;非常适合作为刻蚀掩模,极好的抗干刻、湿刻性能;图案良好的热稳定性;优异的图案分辨率-50 nm以下;碱性水溶液下显影;

mr-EBL 6000

电子束曝光

电子束和深紫外灵敏;非常适合作为刻蚀掩模,极好的抗干刻、湿刻性能;图案良好的热稳定性;优异的图案分辨率-80 nm以下;碱性水溶液下显影。