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紫外正性光刻胶


品牌

产地

型号

厚度

耐热温度

应用

Futurrex

美国

PR1-500A

0.4μm~0.9μm

耐热温度=110 ℃

湿刻、反应离子束刻蚀、离子植入、电镀

PR1-1000A

0.7μm~2.0μm

PR1-1500A

1.3μm~3.0μm

PR1-2000A

1.7μm~4.0μm

PR1-4000A

3.7μm~10.0μm

PR1-12000A

10.0μm~25.0μm

Micro Resist

德国

ma-P 1200系列

0.5~50μm胶厚

非常适合作为刻蚀掩模,极好的抗干刻、湿刻性能;

优异的电镀性能(酸和碱性镀液中极高的稳定性)

光刻胶图案良好的热稳定性;碱性水溶液下显影;

宽带、g或i线曝光